目前,制备纳米的方法主要包括:气相法、沉淀法、SolGel法、水热合成法、微乳液反应法、共沸蒸馏法及超重力反应法等。 下面为大家简单介绍一下气相法、沉淀法和水热合成法。 1气相法 气相法多以四氯化硅为原料, 82实施例3 83本实施例提供一种纳米二氧化硅磨料的制备方法,所述制备方法包括以下步骤: 84分散有10wt%,粒径为10nm的sio2的硅溶胶经四甲基氢氧化铵 一种纳米二氧化硅磨料及其制备方法和用途与流程
17一种二氧化硅研磨抛光剂的制备方法,包括: 18磨料晶种的制备步骤、高纯饱和硅溶胶液的制备步骤,沉积有疏松二氧化硅结晶颗粒的磨料晶核的制备步骤 二氧化硅5大表面改性方法及特点 目前, 二氧化硅 的工业生产以沉淀法为主,所生产出的二氧化硅表面含有大量羟基等极性基团,导致其极易吸附水分子、分散 二氧化硅5大表面改性方法及特点金三江(肇庆)硅
[简介]:本技术提供了一种超精密抛光磨料生产方法,经过固态重结晶的手段制备而成,具体步骤如下:步骤1:首先将γ氧化铝、分散剂、PH调节剂加入水溶液搅拌均匀,控制PH值在8~12之间,然后加入 一:二氧化硅薄膜的制备方法 目前二氧化硅薄膜的制备方法一般有物理气相沉积法、化学气相沉积法、热氧化法、溶胶凝胶法、液相沉积法等,下面对二氧化硅 科研一角||二氧化硅薄膜制备方法、性能及其应用的
二氧化硅在三氟甲磺酸中的应用 氟甲磺酸 (CF 3 SO 3 H)属于化工中间体、是一种重要的有机化工原料。 在电子行业,它可用于制作锂离子电池的原料,广泛应 1 单一磨料抛光液 化学机械抛光液在研究初期大多是使用单一磨料,如氧化铝(Al2O3)、二氧化硅(SiO2)、二氧化铈(CeO2)、氧化锆(ZrO2)和金刚石微粒等,其中研究及应用最多的是Al2O3、SiO2和CeO2。 三种常用磨料透射电镜图 (a)SiO2;(b)Al2O3;(c)CeO2 Al2O3的硬度高,多用于 光学玻璃、晶体和合金 化学机械抛光技术(CMP)中有哪些核心材料?
抛光大致可分为以下几类: A:粗抛打磨: 车,磨,NC,火花机,线割 等工艺后的表面一般比较粗糙,需要用油石打磨,以煤油作为润滑媒介。 一般的使用顺序 #180~#240~#320~#400~#600~#800~#1000。 油石抛光方法,这个作业是最重要的高难度作业,根据加工品的不同规格,分别约70度的角位均衡的进行交叉研磨。 最理想的往返范 研磨液的挑选要注意以下几个要素:悬浮液杂质纯度、二氧化硅颗粒尺寸、二氧化硅颗粒硬度及均匀度、 表面活性剂的选取及比例、PH值调节、氧化剂选取及比例等等。 如:二氧化硅(SIO2)低于3% 氢氧化铵(NH4OH)低于02% 有机化合物(ORGANIC COMPOUND)低于02% 水(H2O)966%以上 研磨垫如何挑选? 1研磨液要能够在研磨垫上有较好的 CMP无损抛光法宝:研磨液(Slurry)
通常制备SiO2薄膜的现行方法主要有磁控溅射、离子束溅射、化学气相沉积、热氧化法、凝胶-溶胶法等。 本文系统阐述了各种方法的基本原理、特点及适用场合,并对这些方法做了比较。 正文:SiO2 薄膜以其优异的性能在半导体、微波、光电子、光学器件以及薄膜传感器等领域获得了广泛的应用。 在微电子技术中SiO2膜被用作扩散掩蔽层 8本发明的技术方案是:一种化学机械抛光用二氧化硅的制备方法,包括如下步骤:s1、取表面活性剂和聚环氧乙烷聚环氧丙烷聚环氧乙烷三嵌段共聚物(p123)溶解于水和乙醇的混合溶剂中,搅拌至充分溶解,得混合溶液;s2、调节步骤s1得到的混合溶液的ph至8~10,一次搅拌,加入正硅酸乙酯(teos)后,继续进行二次搅拌,然后离心、洗 一种化学机械抛光用二氧化硅及其制备方法和应用
离子液改性工艺流程较为简单,在二氧化硅和离子液的混合体系中加入一定量的无水乙醇后再放入恒温水浴箱中反应,待反应充分后干燥即可得到改性二氧化硅。 4、二氧化硅大分子界面改性 大分子界面改性所用的改性剂是一种含有极性基团的大分子聚合物,在与二氧化硅粒子的改性反应过程中,大分子界面改性剂的分子主链能够在引入较多 在抛光过程中,二氧化硅抛光液与蓝宝石表面反应生成硅酸铝的二水化合物。 尽管三氧化二铝磨料可以作为蓝宝石抛光液,但由于现在生产的三氧化二铝磨料一般是通过煅烧、研磨、筛选而得,要想得到均匀一致性好、粒径达到纳米级的三氧化二铝很困难。二氧化硅PK氧化铝!究竟谁是蓝宝石抛光液的主流
1、一种纳米二氧化硅磨料抛光液的制备方法,其特征在于先将磨料II均匀溶解于去离子水中,然后在千级净化室的环境内,在真空负压的动力下,通过质量流量计将溶解的磨料II液体输入容器罐中,与容器罐内的所需重量的磨料I进行混合并充分搅拌,混合均匀后将抛光液的其余组分加入容器罐内再继续充分搅拌,混合均匀即制备成成品抛光液;所述各种组分所 二氧化硅及其生产工艺概述doc,? HYPERLINK "/threadhtml" 白炭黑概述及其生产工艺(一)硅在自然界中主要以二氧化硅和硅酸盐的状态存在,一切植物皆含有少量的二氧化硅,动物体内的结缔组织中亦含有二氧化硅。硅在地壳中的含量是绝对丰富的,硅在地壳中的重量百分数为二氧化硅及其生产工艺概述doc 原创力文档
现将各类磨料简要制造方法、特性及磨削对象分别叙述如下。 1、刚玉系列人造磨料 属于刚玉系人造磨料有棕刚玉、白刚玉、锆刚玉、微晶刚玉、单晶刚玉、铬刚玉、镨钕刚玉、黑刚玉及矾土烧结刚玉等。 (1)棕刚玉(A) 棕刚玉以铝矾土、无烟煤和铁屑为原料,在电弧炉内经高温冶炼而成。 在冶炼过程中,无烟煤中碳将矾土中氧化硅、氧化铁和氧化钛等杂质还 抛光大致可分为以下几类: A:粗抛打磨: 车,磨,NC,火花机,线割 等工艺后的表面一般比较粗糙,需要用油石打磨,以煤油作为润滑媒介。 一般的使用顺序 #180~#240~#320~#400~#600~#800~#1000。 油石抛光方法,这个作业是最重要的高难度作业,根据加工品的不同规格,分别约70度的角位均衡的进行交叉研磨。 最理想的往返范 什么是抛光工艺,抛光可以分为几类?
目前,球形或类球形二氧化硅或石英超细粉的制备方法主要包括物理法和化学法,物理法包括机械研磨法、火焰成球法、高温熔融喷射法、等离子体法;化学法主要是气相法、液相法(溶胶一凝胶法、沉淀法、微乳液法)等。 1气相法 气相法二氧化硅(即气相法白炭黑)是硅的卤化物在精馏塔精馏,在高温下气化后,与一定比例的经过加压、 8本发明的技术方案是:一种化学机械抛光用二氧化硅的制备方法,包括如下步骤:s1、取表面活性剂和聚环氧乙烷聚环氧丙烷聚环氧乙烷三嵌段共聚物(p123)溶解于水和乙醇的混合溶剂中,搅拌至充分溶解,得混合溶液;s2、调节步骤s1得到的混合溶液的ph至8~10,一次搅拌,加入正硅酸乙酯(teos)后,继续进行二次搅拌,然后离心、洗 一种化学机械抛光用二氧化硅及其制备方法和应用
1、一种纳米二氧化硅磨料抛光液的制备方法,其特征在于先将磨料II均匀溶解于去离子水中,然后在千级净化室的环境内,在真空负压的动力下,通过质量流量计将溶解的磨料II液体输入容器罐中,与容器罐内的所需重量的磨料I进行混合并充分搅拌,混合均匀后将抛光液的其余组分加入容器罐内再继续充分搅拌,混合均匀即制备成成品抛光液;所述各种组分所 在抛光过程中,二氧化硅抛光液与蓝宝石表面反应生成硅酸铝的二水化合物。 尽管三氧化二铝磨料可以作为蓝宝石抛光液,但由于现在生产的三氧化二铝磨料一般是通过煅烧、研磨、筛选而得,要想得到均匀一致性好、粒径达到纳米级的三氧化二铝很困难。 最致命的是三氧化二铝硬度大,抛光表面划伤严重;粘度大,抛光表面不易清洗干净, 二氧化硅PK氧化铝!究竟谁是蓝宝石抛光液的主流
1.4目前纳米二氧化硅的一些制备方法 到目Ij{『为止,纳米二氧化硅的生产方法主要可以分为干法和湿法两种。 干法包括气 相法和电弧法,湿法有沉淀法、溶胶.凝胶法、微乳液法、超重力反应法和水热合成法 等。 分别简介如下: 1.4.1气相法 气相 由于水晶、石英脉、石英砾石、硅砂、石英岩等的储藏量属于我国国民经济的非支柱性矿藏资源,也是我国多种未探明储藏量的非金属矿藏,因而全国的硅石矿产储藏量大部分是预测数或未知数,在开采和使用方面均要考虑可持续发展的原则。 高纯硅制备一般工业上可用二氧化硅和焦炭制取粗硅的原理?
二氧化硅及其生产工艺概述doc,? HYPERLINK "/threadhtml" 白炭黑概述及其生产工艺(一)硅在自然界中主要以二氧化硅和硅酸盐的状态存在,一切植物皆含有少量的二氧化硅,动物体内的结缔组织中亦含有二氧化硅。硅在地壳中的含量是绝对丰富的,硅在地壳中的重量百分数为磨料、抛光磨料、金刚石磨料生产制备专利技术资料集 1、磁性磨料的微波合成 针对磁性磨料的制备技术以及磁力研磨技术进行了简单的介绍,并且对国内外的研究情况进行了论述。 微波加热是通过微波渗透到材料内部并使其产生整体升温的一种加热方法,它磨料、抛光磨料、金刚石磨料生产制备专利技术资料